Plassys微波等离子化学气相沉积系统MPCVD
SSDR 150 是一种微波等离子体辅助 CVD (MW-PACVD) 反应器,专门用于金刚石薄膜和宝石合成。作为彻底研发工作的丰硕成果,该反应器使用高功率密度等离子体以高生长速率提供高纯度金刚石薄膜。由于其优化的微波和等离子体设计,SSDR 150反应器是一种可靠而坚固的设备,完美地适应了研发实验室和工业的需求。SSDR 150 易于清洁和更换的钟形罐配置使它特别适用于掺杂金刚石薄膜。
MW-PACVD 的钻石增长
SSDR 150 是一种微波等离子体辅助 CVD (MW-PACVD) 反应器,专门用于金刚石薄膜和宝石合成。作为彻底研发工作的丰硕成果,该反应器使用高功率密度等离子体以高生长速率提供高纯度金刚石薄膜。由于其优化的微波和等离子体设计,SSDR 150反应器是一种可靠而坚固的设备,完美地适应了研发实验室和工业的需求。SSDR 150 易于清洁和更换的钟形罐配置使它特别适用于掺杂金刚石薄膜。
反应器特性
- 高功率密度等离子体
- 高达 400 mbar 或更高的高工作压力
- 6 kW 微波发生器(开关模式电源)
- 4 条天然气管线(可根据要求提供附加管路)
- 2“ 基板支架
- 生长过程中基板载体的自动高度调整(可选)
- 生长过程中的基材纺丝(可选)
- 易于装载/卸载基材
- 双基红外高温计 (475 – 1475 °C)
- 涡轮分子泵+干式主泵
- 基本反应器压力:2×10-7毫巴
- 全自动化流程
- 维护成本低
聚晶石钻石
- PL @液氮温度下无可见氮气
单晶金刚石
- 在PL @液氮温度下无可见氮中心
- 低浓度的单取代氮[NS0](通过EPR测量)
- 拉曼钻石线的FWHM 在 1332 cm-1 : 1.6 cm-1
- 4000 至 10000 cm-1 无红外吸收
- 生长速度高达 10 μm/h,具体取决于生长条件
MPCVD 设备用于金刚石单晶生长及掺杂研究(研发型)
MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石、微波等离子体化学气相沉积系统,CVD金刚石合成设备、纳米晶金刚石、超纳米晶金刚石、UNCD、NCD、MCD、Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System, 超高 纯度单晶、半导体、 掺杂、B-doping、N-doping、蓝钻、 粉钻、黄钻
型号:BJS150, 产地:欧洲
- 主要技术指标:
- 微波发生器:6 KW, 2.45GHz,脉冲功率模式可选
- Ripple 2% at full power,
- stability 1% at full power.
- 钟罩型腔体:非常适合生长单晶和掺杂。
- 支持高功率密度等离子体
- 工艺气压:高达300mbar或更高
生长速率:高达50μm/h - 气 路:4条基本气路,分别为H2, O2, CH4, Ar;
- 可以最多增加额外3条气路
- 样 品 台:适合两英寸衬底,高度精密可调,衬底旋转可选
- 温度测试:采用双色红外高温计,范围475℃-1475℃
- 精度 ≤±10℃。
- 真空系统:采用分子泵+干泵
- 真空度≤5×10-7mbar
- 漏率 ≤10-9 mbar/l/s.
- 控制系统:配套有全自动控制系统、工业电脑、必要的数据接口及操作软件;
- 支持多级用户权限设置和多用户管理,系统支持设备的远程操作和维护;
- 系统含故障报警及定位功能,能及时提示相应故障部件。
- 支持半自动和手动操作模式。
- 设备应用:具备多种用途,以满足用户科研需要;
- 适合生长杂质浓度低于1ppb的超高纯度单晶,且有大量专业科技文献佐证;
- 适合金刚石掺杂(硼、磷等)研究及光学级多晶窗口生长。
- 工艺培训:原厂工程师现场演示金刚石生长,包括种子选择、种子预处理、
- 种子的固定及生长工艺等培训,并现场演示单晶生长;
- 原厂需具有高水平和丰富的金刚石生长工艺经验。
微波等离子体化学气相沉积系统-MPCVD(科研/小批量生产型 )
关键词: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石、微波等离子体化学气相沉积系统,CVD金刚石合成设备、纳米晶金刚石、单晶金刚石、single crystal diamond、SCD、 Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System
型号:SSDR150, 产地:欧洲
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- 腔体:铝合金腔体,内含石英管反应室;可以长时间满功率运行。
- 微波发生源:频率为2.45GHz、功率为6KW,LCD数显微波入射和反射功率。
- 4条气路:分别为氢气、甲烷、氧气、氮气
- 可以增加额外3条气路、可以选择气体(B、N、P)或液体(P)掺杂。
- 样品台: 水冷,可以容纳2英寸衬底;
- 测温系统:采用双色高温计;
- 真空系统:干泵+分子泵。
- 可以选配: 光谱仪,样品台旋转功能,微波发生源脉冲模式,3-4英寸样品台
- 控制系统:配套有全自动控制系统、工业电脑、必要的数据接口及操作软件;
- 支持多级用户权限设置和多用户管理,系统支持设备的远程操作和维护;
- 系统含故障报警及定位功能,能及时提示相应故障部件。
- 支持半自动和手动操作模式。
- 设备应用:具备多种用途,以满足用户科研需要;
- 适合生长杂质浓度低于1ppb的超高纯度单晶,且有大量专业科技文献佐证;
- 适合一次性生长厚单晶以及多种子生长;
- 适合金刚石掺杂(硼、磷等)研究及光学级多晶窗口生长。
- 工艺培训:原厂工程师现场演示金刚石生长,包括种子选择、种子预处理、
- 种子的固定及生长工艺等培训,并现场演示单晶生长;
- 原厂需具有高水平和丰富的金刚石生长工艺经验。
微波等离子化学气相沉积设备(MPCVD system)产品特点:
MPCVD方法合成金刚薄膜具有高纯度、均匀性好、面积大等优点,特别是在合成大面积金刚石薄膜方面,是其他方法难以与媲美的。欧美、日本已经能够提供高稳定性MPCVD设备,供科研和生产使用。
- 1、独特的腔体设计及耦合方式,为等离子球的均匀性及铺展性提供了可靠的保障。
- 2、独特的天线设计使得plasma-wall几乎无反应,可获得高纯度的等离子体,从而合成高纯度金刚石薄膜。
- 3、独特的能够供给方式,功率:6KW ,35KW;根据不同的微波功率,生长速度可控:5-50 μm/hr。
- 4、可用于沉积高品质单晶(single crystal diamodn/homoepitaxy growth)、多晶(polycrystalline diamond)、纳米晶(namocrystalline diamond);
- 5. 用我们的设备可以沉积大面积光学级金刚石薄膜(PCD for high power laser output window and high power microwave window):可达直径8英寸以上,厚度可达几个mm;
- 也可以获得高纯度单晶金刚石(SCD),N含量可以达到ppm,ppb,甚至是无杂质无色透明单晶;
- 也可以进行掺杂研究(for N-dopingP-dopingB-Doping as P-type or N-type semiconductors)
- 还可以进行多种子同时沉积,进行大规模单晶金刚石生产(Multiple-seeds growth)。
- 该设备可用于工具级、热沉级、光学级、电子级大面积高品质金刚石薄膜的合成。欢迎新老客户咨询,本公司将为您的科研、生产量身推荐最适合的设备配置,提供更详细的工艺生长计划!
- With our MPCVD system, you can grow single crystal diamond (SCD)/ monocrystal diamond which has the lowest inpurity. And you can also grow large polycrystalline diamond (PCD)for high power laser window or high power microwave window, the diameter ranges from 4 to 8’’ or even larger, and the thickness is from 1mm to several mm.
热丝化学气相沉积系统(HFCVD)-纳米晶金刚石薄膜制备
热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition System namely HFCVD)方法常常应用于工具表面的金刚石涂层、热沉金刚石片及自支撑超纳米晶金刚石薄膜的合成;其应用于机械工具、微机电系统(MEMS),光学窗口等。
我们提供热丝化学气相沉积系统(HFCVD system),适合于:
- 1. 合成各种厚度和大面积的超纳米晶(ultra-nanocrystalline diamond coating/film/wafer;UNCD)、纳米晶(nanocrystalline diamond coating/film/wafer;NCD)、微米晶(microcrystalline diamond coating/film/wafer;MCD)金刚石;有效沉积面积最大可以达到0.5m2;
- 2. 可以在不同工具形状表面沉积,例如沉积3D diamond coatings 或者diamond dome;
- 3. 也可以用于掺杂研究(例如B-doping ),或多层膜结构研究及生产;
- 4. 应用于各种领域,例如cutting tools,metrology,thermal management等。