Plassys电子束蒸镀系统
电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究
电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。
推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。
蒸发高压/特高压
- 带前门的箱形腔室，带顶盖的圆柱形腔室
- 带基板处理的负载锁定（等离子、离子枪、加热、氧化）
- 高达 8“ 标准单基板或多基板
- 电阻（焦耳效应）、电子束或电感源
- 各种样品架功能：加热、水冷、旋转和/或倾斜、LN2
- 用于样品制备、蚀刻或辅助沉积 （IAD） 的离子枪
非详尽的应用程序参考列表
- 提空过程
- HMET， PHMET 晶体管
- 氮化镓上的欧姆和肖特基接触
- 红外波导
- 热障
- 用于微波应用的磁性材料
- 微机电系统封装
- 约瑟夫森结和相关电路
MEB800S离子束辅助沉积光学镀膜系统（Ion beam assisted deposition）
- 热蒸发源：多个
- 电子束蒸发源：多坩埚
- 高真空系统：低温泵+干泵，真空度＜10-7 Torr
- 样品台：可接纳4个6英寸衬底
- 膜厚检测系统：多个晶振检测探头
- 沉积速率分辨率：0.01A/s
- 离子束辅助沉积
- 光学监控系统：多个探头、多波段。
- 监控范围：220nm-2200nm
- 高精度镀膜
- 电脑控制：全自动软件
金属薄膜制备专用热蒸镀镀膜系统
- 型号：MEB450S， 产地：欧洲， 应用：沉积金属薄膜
- 蒸镀腔体：高600mm、宽450mm、深450mm
- 热蒸镀源：6个热蒸镀源
- 样品台： 可加载4×60mm衬底
- 衬底旋转：10 rpm
- 衬底加热：热阻丝加热可达300℃
- 采用热电偶控温
- 厚度控制：采用 石英晶振膜厚控制仪
- 衬底清洗及刻蚀：
- 配备直流离子枪
- Ar、N2气路用于反应离子束刻蚀
- 刻蚀不均匀性±4% @ 60mm晶圆
- 离子枪到衬底距离为300mm
- 控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用
- 支持多级用户权限设置和管理
- 支持设备远程操作、监控、诊断和维护
- 系统自动报警及定位故障
高真空电子束蒸发镀膜机（通用型）
产地：欧洲； 型号：MEB550； 应用：制备金属膜、氧化膜薄膜
高真空电子束蒸发镀膜设备是量子器件制备中必不可少的仪器，用于制备各种高纯金属薄膜和氧化物薄膜。MEB500高真空电子束蒸发镀膜仪（HV E-beam evaporation system）得到全球科研工作者广泛使用和推崇，并且具有良好的声誉。利用上述配置，研究者可以制备各种高品质和高度可重复性Au, Ti, Pt, Pd, Al, SiO2, 铁磁薄膜材料等。目前包括中国科学院物理所、清华大学、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备；在国际上也获得了美国(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英国（Glasgow Univ）、德国（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄罗斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等国家的著名机构的高度认可。
- 蒸发腔体：450×550×550mm
- 真空系统：低温泵/TMP+ 叶片泵/干泵；
- 电子束蒸发源：6-15KW，6-8×15cc
- Load lock预真空进样室：
- 真空系统：TMP+叶片泵/干泵，
- 样品台：可加载4英寸衬底
- 衬底3D转动
- 衬底倾斜：角度范围请咨询；
- 衬底旋转：20rpm.
- 衬底加热
- 衬底冷却
- 静态氧化
- 反应气体：两路反应气体+MFC
- 支持反应蒸镀和化学辅助离子束刻蚀
- 衬底清洗：
- RF等离子体清洗，300W RF (13.56 MHz)
- 离子枪清洗：考夫曼离子源，Ar气路+ MFC
- 石英晶振膜厚控制仪
- 全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。
金属薄膜制备专用电子束蒸发镀膜系统
- 型号：MEB 400S， 产地：欧洲， 应用：沉积金属薄膜
- 坩埚：8×12cc, 材料分别是Ni, Pt, Al, NiCr, Au, Ge, Ti, Au金属
- 电子枪：10kW
- 真空系统：采用低温泵+干泵
- 配备薄膜真空计、潘宁/皮拉尼真空计
- 样品台：可接纳4英寸衬底
- 衬底旋转：双星新运动
- 膜厚控制仪：沉积速率0.01A/s, 厚度分辨率0.1A
- Load Lock可选
- 控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用
- 支持多级用户权限设置和管理
- 支持设备远程操作、监控、诊断和维护
- 系统自动报警及定位故障
热障层制备/红外波导 专用电子束蒸镀仪
热障层、红外波导、lift-off工艺、HMET晶体管、PHMET晶体管、欧姆接触、肖特接触、磁性材料、MEMS封装、约瑟夫森电路
型号： MEB550S， 产地：欧洲 应用：Thermal barriers/红外波导
- 8个坩埚：Au, Pd, Al, Mo, Ni, NiCr, Ti, Ge
- 样品台可旋转、可倾斜，可加载6英寸衬底
- 配备Load Lock和主腔体
- 真空系统：采用低温泵和干泵
- 10kW电子束源
- 离子枪对衬底进行清洗和刻蚀
- 全自动控制，半自动和手动可选，支持远程维护
金刚石预金属化专用子束蒸发镀膜系统
金刚石、金属化、钎焊、电子束蒸镀
型号： MEB400S， 产地：欧洲 应用：用于金刚石电子器件表面金属化处理
- 样品台可旋转，最大可加载4英寸金刚石器件
- 配备主腔体和LOAD LOCK
- 采用10kW电子束蒸发源
- 全自动电脑控制系统，半自动和手动可用
- 支持远程维护、操作、监控
介电薄膜沉积专用电子束蒸镀设备
SiO2、AlN、Al2O3、介电膜、刻蚀、电子枪、离子枪、氧化铝、氮化铝、二氧化硅
型号： MEB400S， 产地：欧洲 应用：沉积介电薄膜（SiO2, AlN, Al2O3等）
- 用于介电质膜层沉积，例如SiO2，Si3N4，Al2O3
- 样品台双行星转动，可加载4英寸衬底
- 配备Load Lock和主腔体
- 真空系统：采用低温泵/分子泵+干泵
- 10kW电子束源，多枪
- 样品台可加热
- 配备离子枪，可对样品进行清理和刻蚀
- 配备氩气、氮气气路和MFC
- 全自动电脑控制系统，半自动和手动可用
- 支持远程维护、操作、监控
