Picosun原子层沉积PICOSUN Sprinter ALD
PICOSUN® Sprinter ALD 系统旨在中断半导体（例如新兴存储器、晶体管、电容器）、显示器和物联网组件行业中 300 毫米生产线的批量 ALD 生产。在 Sprinter 中，势垒、高 k 氧化物和其他薄膜以完美的 ALD 大量沉积。
全自动、经 SEMI S2/S8 认证的 PICOSUN® Sprinter 将领先的单晶圆薄膜质量和均匀性与快速加工、高吞吐量和无与伦比的可靠性相结合。
Picosun公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。PICOSUN ®ALD设备已在世界各地的许多领先行业中投入日常生产使用。
Picosun原子层沉积PICOSUN Sprinter ALD技术特点
- 批量 300 mm 晶圆，用于高吞吐量 ALD
- 可进行双面涂覆
- 高纵横比示例
- Al 2 O3、SiO 2、TiO2和其他金属氧化物和氮化物
- 最高 400 °C
- 每小时超过 100 片晶圆 @ 10 nm Al2O3 厚度
- Picosun 自己的专有、符合 SEMI 标准的调度程序
- 一个通用接口来控制整个集群
- 每 20 毫秒记录一次数据
- 可以导出趋势数据
- 不同用户级别的访问权限
- 基于 EtherCAT 的 MFC 和 MFM 通信
- 增强的恢复功能
- 整个群集的一个公共事件日志
- 可自由配置和可扩展的配方编辑器（没有固定数量的步骤和循环）
- 配方可以在系统操作期间随时编辑/创建
- 液体、固体、气体、臭氧
- 液位传感器可用于前驱体容器
- 自燃前体的连续分配器作为选件提供（最多可提供 4 个工具）
PICOSUN® Sprinter 的核心是其颠覆性设计的反应室，其中完全层流的前驱体流可确保完美的 ALD 沉积，没有寄生的 CVD 生长。这最大限度地减少了对系统维护的需求。
与通常用于批量原子层沉积处理的立式炉反应器相比，Sprinter 以更低的热预算提供更高的薄膜质量，因此也适用于对温度敏感的设备。
与立式炉相比，Sprinter 的处理时间非常快，批量更小，在不牺牲产量的情况下，可实现更大的生产灵活性和最小的风险。
该工具还展示了破纪录的批量薄膜质量。
标准的 Sprinter 集群配置包括两个 ALD 模块、一个带有预热和冷却室的中央晶圆处理机器人，以及一个用于从/向 FOUP 装载/卸载晶圆的 EFEM 站。Sprinter也可以作为独立模块购买，准备集成到现有的生产线或集群中。
PICOSUN® Sprinter在芬兰制造，采用欧洲真空机器人和工艺模块。
PICOSUN® Sprinter的产品开发工作已获得欧盟地平线2020研究和创新计划R3-PowerUP的资助，资助协议编号为。ECSEL 737417.
