ISTEQ等离子体EUV光源TEUS
ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒，因此持续运行时间极长。
ISTEQ公司为LPP光源开发的燃料是针对特定应用的光谱范围而设计的。然而，对于掩模检查的应用，公司开发了一种高频锡旋转靶，已在全球范围内获得专利。
自从业界选择遵循EUV路径以来，Isteq集团一直在研究这项技术。我们开发了一种基于激光等离子体（LPP）的EUV源。光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它还具有可更新的燃料，不会中断，也无需更换燃料盒，因此为行业提供了极高的正常运行时间。
我们为LPP源开发的燃料特定于特定应用的光谱范围。但是，对于掩模检测应用，我们开发了一种高频锡旋转靶，该靶材已在全球范围内获得专利。
由于我们的团队在该领域获得的经验和专业知识，我们用于生产EUV的技术与其他竞争对手相比具有许多优势。ISTEQ的XWS光源产品经过专门开发，可用于各种应用，包括光谱学，高分辨率显微镜，薄膜测量，表面测量等。 这些资源基于尖端技术，并受到全球专利的保护。
ISTEQ等离子体EUV光源TEUS参数
| 型号 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
|---|---|---|---|
| 激光平均功率W | 100 | 200 | 400 |
| 脉冲重频 kHz | 25或70 | 50或135（可调） | 100或200（可调） |
| EUV功率立体角 sr | 0.05 | ||
| 等离子体尺寸 μm | ≤ 60或 ≤ 40 | ≤ 60或 ≤ 45 | |
| 带内辐射转换效率(13.5 nm±1%) | 2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
| 碎片处理系统后角内光通量mW | 11 或 9 | 22 或 18 | 44 或 40 |
| 碎片处理系统后光谱亮度W/mm2·sr | ≥ 80或 ≥ 140 | ≥ 160或 ≥ 280 | ≥ 310或 ≥ 500 |
| 等离子体稳定性 | 3% rms | ||
| 在24/7运行状态下，在不使用特殊膜过滤器情况下，收集器寿命下降10% | 不少于8个月 | 不少于4个月 | 不少于2个月 |
| 在24/7运行状态下，使用特殊膜过滤器情况下，收集器寿命下降10% | 不少于18个月 | 不少于9个月 | 不少于4个月 |
| 维护时间间隔 | 4 个月 - 1 天 | 3个月 - 2天 | 2个月 - 1天 |
| 24/7 运行模式下的正常运行时间*** | 4个月 | 3个月 | 1个月 |
| 电源 | 5 kW | 8.5 kW | 10.5 kW |
| 尺寸（长×宽×高）mm | 1500×1000×1200 | ||
| 重量，包括激光组件 kg | 770 | ||
| 房间洁净度等级 | ISO 7 | ||
| 水流量 | 10升/分钟 | 15升/分钟 | 25升/分钟 |
产品特点：
- 高亮度以及出色的稳定性
- 最少的碎片
- 极高的正常运行时间
- 高占空比和交钥匙操作
- 用户友好的自动化协议，确保系统平稳运行，没有中断的风险。
产品应用：
- 掩模和表面检查：
- 图案掩模检测 (PMI)
- 区域掩模检测 (AIMS)
- 掩模空白检测 (MBI)
- EUV 扫描仪检
- 材料科学
- 晶圆检查
