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从美苏冷战到微观世界——自适应光学在超分辨显微成像技术中的应用

浙江大学光电科学与工程学院郝翔研究员团队详细分析了近年来自适应光学在超分辨显微成像技术的应用,对其总结并对未来技术发展方向进行了展望。该工作被选为期刊内封面,发表在2024年第5期。(查看全文信息请点击文末“阅读原文”)

 

从美苏冷战到微观世界——自适应光学在超分辨显微成像技术中的应用
封面解读

 

封面描述了一个虚构故事,阿基米德组织叙拉古城的妇女和孩童每个人手拿镜子,点燃了罗马的帆船。画面中,每个人手拿一个镜子,类比三体的人列计算机,变成了一个大的自适应光学系统,完成细节的观测。作者所在团队X-Lab实验室将在“微观荧光细胞”的研究海洋中远航。目镜后一半模糊一半清晰是因为超分辨显微镜使用技术(STED或自适应光学技术),将原本模糊的微观结构清晰化了。

撰稿人:王韵澎

 

论文题目:自适应光学在超分辨显微成像技术中的应用(内封面文章·特邀)

作者:王韵澎1,燕静1,郝翔1,2

完成单位:1.浙江大学 光电科学与工程学院;2.浙江大学 嘉兴研究院智能光电创新中心

导读

 

自适应光学技术诞生与20世纪60年代中期,是美苏冷战太空竞赛的产物。地基自适应光学系统对获得清晰图像来确定友邦卫星的运行状态有着巨大作用,因此自适应光学被美方航空航天防御司令部和太空与导弹系统部特别关注。

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图1 美苏冷战太空争霸

 

荧光显微镜是研究细胞结构和动态过程的最有力的工具之一,近年来发展的超分辨显微成像技术更是突破了传统衍射极限,能够在观测活体生物样本中达到纳米级的分辨率。但由于生物样品内部折射率变化的复杂性,进行超分辨观测时成像性能往往会因样品引起的像差而降低。自适应光学是一种矫正波前误差的技术,在超分辨显微成像技术中引入自适应光学技术可以显著提高超分辨系统的成像分辨率、成像深度、成像速度。为了进一步提高超分辨显微成像系统的成像性能,研究者们不断创新自适应光学在超分辨技术的应用方法。

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图2 生物显微技术

 

一个曾经的冷战时期美苏太空战的产物,到如今在生物显微领域大放异彩,自适应光学技术是如何一步步进化与迭代的?请听作者娓娓道来。

研究背景

 

荧光显微镜引入超分辨显微技术后,荧光显微镜的理论分辨率可以达到亚纳米量级。但是实际实验中,往往会有各种因素造成严重的分辨率损失。其中最为常见和重要的是像差问题。在荧光显微镜中,光线以球形波前的形式传播,被物镜收集并转化为平面波前,然后会聚为球形波前,最终在检测器处形成理想的衍射像点(PSF)。像差会导致光偏离理想光路的缺陷,使波前畸变、焦点模糊,从而降低图像质量和分辨率。光学系统和生物样品都可以引入像差。系统引起的像差是由于光学元件的非理想性和制造缺陷造成的。生物样品引入的像差会相对更为复杂;它们可以由物镜浸泡介质和样品之间的折射率不匹配引起,主要表现为球差。此外,生物样品内部的异质性会产生复杂的像差,生物标本内部复杂的散射和畸变在实践中几乎是不可预测的。当使用超分辨显微技术成像较厚样品时,生物样品引入的像差有可能会直接消除超分辨技术进行的分辨率提高。像差会影响光的相位、振幅和偏振,从而增大PSF,降低图像质量。

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图 3 样品像差引入与自适应光学矫正

 

为了恢复最佳成像性能,必须对光场中的这些扰动进行补偿。适应光学(AO)是一种能够测量和校正波前并优化光学像差的技术。AO最初用于天文成像,现在已被引入一系列显微成像系统中以矫正像差并恢复图像的分辨率。AO系统的基本原理是像差的测量和校正。它先通过波前测量的方法测出像差,再通过自适应校正元件(变形和空间光调制器)进行波像差的矫正。

主要内容

 

自适应光学系统的两个主要组成部分,波前探测和波前校正,是实现高质量显微成像的关键技术。这一技术的实施首先依赖于精确的波前探测,其次是高效的波前校正。

波前探测

 

波前探测的目标是精确测量从样本返回的光波的畸变。在自适应光学系统中,波前探测可以通过直接或间接两种方式进行:

直接波前探测:此方法使用波前传感器,如Shack-Hartmann波前传感器,来直接测量波前畸变。Shack-Hartmann传感器由一个微透镜阵列和一个检测相机组成。入射光波通过微透镜阵列被分成多个小波前,每个微透镜产生一个焦点,这些焦点的位置依赖于通过该微透镜的光波的相位梯度。通过分析这些焦点在相机上的位置变化,可以计算出局部波前的倾斜,从而重建整个入射波前的畸变。

间接波前探测:间接探测不依赖专门的波前传感器,而是通过分析成像系统获取的图像质量来估算波前畸变。这种方法中,图像质量的评估可以通过各种指标,例如图像的锐度、对比度或者傅里叶变换的高频成分来实现。一个常见的技术是使用评价函数法,该方法通过调整波前校正器件并观察图像质量变化来迭代找到最佳的波前校正配置。

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图4 自适应光学探测的分类

 

在超分辨显微成像应用中,自适应光学技术对提高成像性能至关重要。对于不同类型的超分辨显微技术,如单分子定位显微镜(SMLM)、结构照明显微镜(SIM)和受激发射耗尽显微镜(STED),自适应光学能有效校正样品引起的像差,改善成像深度和分辨率。这里以STED举例,受激辐射损耗(STED)显微镜的基本原理是在激发光束外引入损耗光束以压缩PSF使分辨率超过衍射极限,是由三条光路组成的共聚焦扫描显微镜,包括用于激发样本荧光标记的激发光路,用以探测收集辐射荧光的探测光路,用相位掩模整形光束以提供中心处强度为零的环形损耗光束的损耗光路。

 

此三条光路均会受到样本像差的影响。像差的存在不仅削弱激发光束焦点处照明强度,降低荧光激发水平,还会模糊激发光束焦点,激发更多焦平面以外的荧光,离焦荧光难以被损耗光束有效抑制,导致背景荧光增加,同时共焦针孔上的荧光焦点被模糊,探测光路收集荧光减少,显微镜检测效率降低。损耗光束,决定STED显微镜的分辨率,对多种类型的像差都十分敏感,尤其3D-STED中须加载环形相位的损耗光束。扭曲焦点不破坏损耗光束中心的零照明强度的像差模式将 STED 显微镜的分辨率降低到共聚焦水平,破坏零强度的像差模式由于易抑制整个损耗光束焦点区域而不仅仅是外环区域的荧光,导致激发荧光团过少,图像信噪比大幅下降,图像可能完全无法使用。因此校正三条光路中的像差对于STED显微镜十分关键。

在STED中由于系统较为复杂,校正像差大多采用基于像质评价指标的无WFS的AO方法,取得的成像效果也较为良好。大多显微技术所选择的图像亮度的评价指标,却并不适用于STED显微镜,因为STED显微镜中损耗光束对激发光束焦点的有效抑制,伴随着总图像强度固有的下降。以图像锐度为评价函数原理上可行,但基于此的优化易被STED焦点退化所影响,因为噪声可能比成像样本更加清晰。所以,很多研究团队组合图像亮度与图像锐度作为评价函数,并成功校正了STED显微镜中的系统像差和样本像差。

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图5 自适应光学帮助STED大幅提高分辨率

 

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图6 STED显微镜下的细胞微管

 

结论

 

AO技术诞生于天文学,后在显微成像领域大放异彩,又因为其强大地矫正波相差的能力成为了超分辨显微成像技术不可或缺地一部分。与天文学相异的是,超分辨显微成像所用的生物样品内部折射率会复杂许多,针对活细胞成像的时间窗口也比传统天文学观测的要短,超分辨领域对像差矫正的精细度要求也会高很多;因此无论是使用SH传感器的直接波前探测还是基于图像的间接波前探测,超分辨显微领域的学者们都尝试在AO的普适度、响应速度、准确度上进行创新。

 

AO在超分辨显微镜中的潜力尚未得到充分释放。随着AO技术的成熟,可以在组织中进行更深入的成像,此时高阶像差校正和散射校正变得更加重要。除了像差外,荧光显微镜的成像质量和分辨率还受到其他因素的影响,如光漂白、机械稳定性和检测器噪声等,AO对这些改善以上指标也有或多或少的贡献。AO技术也在朝着矢量化发展,矢量自适应光学(V-AO)会更加适用于高数值孔径的超分辨显微系统。与此同时,迅速兴起的深度学习技术也将与AO更加紧密的结合,让波前探测更准确、更快速。

更高的空间分辨率、更大的成像深度、更多的成像维度、更快的成像速度是超分辨领域学者们永远追求的目标。在未来,我们相信,AO技术将不断与超分辨显微领域融合,AO技术在超分辨显微领域应用会更加的广泛、深入。

作者及团队介绍

 

郝翔,博士,浙江大学光电科学与工程学院研究员。在2014年,他在浙江大学获得工学博士学位。在2018年重新加入浙江大学之前,他在耶鲁大学医学院细胞生物学系任Associate Research Scientist,并曾前往牛津大学、霍华德·修斯医学研究院、加州大学洛杉矶分校访学。郝翔博士曾在Nature Methods、Light: Science & Applications等发表论文100余篇、专利40余项,获播光人奖、中国光电博览奖,成果入选中国光学十大进展(应用研究类)。

 

王韵澎,浙江大学光电学院硕士研究生,自2022年开始研究超分辨显微后端的图像增强技术,使用深度学习等工具进行图像分割与增强,共发表国内外论文2篇。

 

从美苏冷战到微观世界——自适应光学在超分辨显微成像技术中的应用
X-LAB隶属于浙江大学光电科学与工程学院光电工程研究所,同时也是浙江大学全国重点实验室和浙江大学嘉兴研究院智能光电创新中心的一部分。深耕显微成像技术、高光谱成像技术、计算成像技术等领域,在受激发射损耗显微术(STED),膨胀显微术(ExM),角膜共聚焦显微镜(CCM),半导体表面/亚表面的缺陷检测(DI),矢量衍射理论的光学仿真,基于深度学习的高光谱成像技术技术分支上取得了一些令人鼓舞的成果。

 

文章信息

 

王韵澎, 燕静, 郝翔. 自适应光学在超分辨显微成像技术中的应用(内封面文章·特邀)[J]. 红外与激光工程, 2024, 53(5): 20240011. DOI: 10.3788/IRLA20240011

 

全文链接:http://irla.cn/article/doi/10.3788/IRLA20240011(阅读原文)

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